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      炎炎夏日，不負(fù)期待，清洗機(jī)系列再添新“汽相”，Vapor SUI Clean 隆重登場。

      經(jīng)過研發(fā)團(tuán)隊潛心研發(fā)，我司隆重推出全新的汽相噴流清洗機(jī)Vapor SUI Clean，這是我司在溶劑微波清洗領(lǐng)域做的新嘗試，相較于傳統(tǒng)的超聲清洗的汽相設(shè)備，Vapor SUI Clean采用了獨特的清洗技術(shù)，減少溶劑消耗的同時達(dá)到更高效的清洗效果。

清洗應(yīng)用：

裸芯片清洗

3D封裝組件的清洗

微間隙超精密清洗

SIP及微波組件清洗

半導(dǎo)體封裝前清洗

PCBA三防前清洗

清洗帶低間隙器件的電子組件，如FC,BGA,CSP,BTC,QFN,MELF等

適用于需無水清洗的組件

不允許產(chǎn)生廢水的工廠

設(shè)備特點：

第三代雙液共溶汽相清洗技術(shù)

獨特的SUI雙流路清洗技術(shù)，最高可達(dá)500L/min的大流量噴流清洗

無水清洗工藝，適用于裸芯片清洗，能徹底漂洗有機(jī)物

多次循環(huán)汽相漂洗，提高工藝靈活性

雙重冷凝系統(tǒng)+雙重密封，嚴(yán)格控制溶劑揮發(fā)，人機(jī)環(huán)境友好

清洗工藝流程可根據(jù)清洗需要靈活設(shè)置

可定制的專用籃子及夾具